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浅沟道隔离
浅沟道隔离（Shallow Trench Isolation）是一种常用在传统CMOS硅工艺中隔离器件的工艺技术。
基本介绍
- 中文名：浅沟道隔离
- 外文名：Shallow Trench Isolation
- 别名：STI
- 相关：LOCOS
浅沟道隔离（Shallow Trench Isolation）是一种常用在传统CMOS硅工艺中隔离器件的工艺技术，另一种为LOCOS。
浅沟道隔离
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