苏大维格作为从事微纳技术领域研发与製造的高技术企业， 苏大维格致力于行
业共性技术与关键设备的开拓创新，高端微纳图形化直写设备、微纳材料研发，推进新型显示、照明与成像行业的产业套用。 10年来的发展，苏大维格成为A股深交所创业板上市企业（300331） 。
建有国家工程研究中心等研发创新平台。

（ 1.3万平米），苏州工业园区钟南街478号。其中，维格光电主营无缝镭射包材、定製化全息印 材、3D成像与光学防伪转移材料、防伪烫金箔。维旺科技：建有中大尺寸超薄导光板（膜）产线。主营：超薄导光板（膜）、定向扩散增亮膜等微光学器件。具有独立的光学设计、模具製备、评测和量产能力。套用于：平板电脑、智慧型手机，背光键盘、家电、汽车的LED超薄背光照明。

（2.7万平米）： 苏州工业园新昌街18号。公司总部、国家地方联合工程研究中心、新品中试平台设在第二厂区。建有工程化的宽幅微纳米加工与製造研发设施与规模化製造能力。主营：1、公共安全解决方案：证卡防伪材料（变色Color-shift）、动态光学放大膜AMOS）。2、微纳仪器设备：高速紫外雷射图形化直写设备、纳米图形化光刻设备、柔性纳米压印设备、雷射签注防伪系统；3、3D成像材料与器件等。4、大尺寸透明导电薄膜（触控感测器膜）产线、LED纳米图形化试验基地设在第二厂区。

2001年底，苏州苏大维格数码光学有限公司SVG DigitOptics在苏州工业园区国际科技园注册。2002年5月，正式投入运营。

成立初期，致力于“数码雷射全息製版系统HoloMaker series”研发、雷射全息製版技术服务、光学防伪解决方案、产业化套用。其中，HoloMaker成为中国、香港及韩国、印度等的雷射全息行业关键设备，成功促进了中国光学防伪与包装行业技术进步。为此，02年初，获中华人民共和国科技进步二等奖，这是中国雷射全息行业颁发最高奖项。公司创始人、董事长是中国光学全息工程领域的着名专家，兼任中国光学学会光信息处理与全息专业委员会主任。
2003-2004年，研製成功“定向光变色膜（OVCF）”原版製造技术，成功套用于我国第二代身份证的物理视读膜。同年，研发成功大型纳米压印设备（平压平和卷对卷）。
2005年，自主研发并建立了中国首条“定位镭射转移材料生产线”，开创了“定位镭射印刷转移纸张”在菸草印刷包装上的套用先河，“定位雷射转移纸张”获得中国专利授权。同年，公司获江苏省高新技术企业认定，通过ISO9001质量管理体系认证。取得了一批雷射光刻领域的发明专利权。
2006年，成立“江苏省数码雷射成像与显示工程研究中心”（科技厅、财政厅批准），主要致力于超精密雷射图形关键製造技术（光刻、直写、刻蚀）和装备、新型平板显示背光模组关键材料、光学防伪解决方案、手机导光薄膜等製造技术的研发与套用。
2006年，研製成功“宽幅智慧型雷射SLM光刻设备工程样机并投入套用，首家实现了大幅面、高速度的亚微米全息图像的快速光刻，多项中国发明专利授权。企业获“苏州工业园区十佳科技创新小巨人”、“2004-2006年度苏州工业园区民营科技创新十强企业”称号。
2007年，建立苏州工业园区博士后工作站维格分站。建立镭射转移膜产能；研製成功HoloScanV紫外雷射干涉光刻设备，这是国际上领先水平的亚微米雷射直写系统。苏大维格具有了国际一流的超精密图形的设计与製造能力。
2007年，研製成功“DMD并行雷射光刻系统MicroLab”，具有超过10,000dpi的图形解析度，主要套用于精密图形设计製造（导光结构、亚微米图形），研发成功手机导光薄膜（LGF），并成立苏州维旺科技有限公司，专注于手机及平板显示光学材料研发与製造。
2008年8月，苏大维格数码光学有限公司改制成为“苏州苏大维格光电科技股份有限公司”SVG Optronics，将业务领域扩大到“镭射转移材料”、“平板显示材料”、“高端光学防伪解决方案”和“先进制造装备”（超精密图形雷射光刻设备，纳米压印工艺设备、LIGA技术套用等”。配合公安部相关研究院所研发DMD双通道光变色膜，在我国“新驾驶证”“机动车行驶证”上全面套用。
2008年9月，苏大维格的“宽幅智慧型雷射SLM光刻系统与套用”荣获江苏省科技进步一等奖（全省第一名）。
2008年11月，苏大维格入选“苏州市50家首批科技创新试点企业”。研发成功“导光薄膜”并套用于手机keypad。配合国家邮政印製局推出首套採用“定位镭射图形”29届北京奥运会开幕式纪念邮票等（Stamp in commenoration of Openning ceremony of XXIX Beijing Olympic）。
2009年3月，HoloMakerIII-b出口日本；研製成功“无缝彩虹膜压印设备和彩虹膜材料；大型无缝镭射薄膜压印设备出口印尼等国。
2009年4月，“雷射直写设备iGrapher200”投入套用，具有350nm以上图形直写能力，支持複杂微结构图形製造。
2009年5月，研製成功“微透镜阵列光学薄膜”，建立了微透镜阵列的批量製造能力。这是中国第一个集微透镜阵列薄膜研发与製造能力的单位。研製成功具有突破意义的“ActiveMatrix”动态图形光学防伪薄膜，拟用于高层（公安、金融等）防伪领域。
2009年7月，苏大维格的“微镜Fresnel技术”套用于茅台“白金酒”防伪包装。
2010年5月，研製成功双面UV微纳结构动态光学放大膜。
2010年10月，研製成功超大幅面（1500mmx1300mm）雷射图形化设备，填补了行业空白。

定製化光学（镭射）包印材

定製化雷射转移材料 导光

专用烫金箔（电化铝）

镭射（光学全息）版纹展示
显示照明光学材料器件
超薄导光板、新型透明导电膜
3D显示、成像、增亮光学膜
光学防伪解决方案
品牌产品
高端光学防伪
微纳图形化製造与纳米压印设备
微图形化：无掩膜雷射直写
纳米图形化：紫外雷射混合光刻
雷射全息製版系统
卷对卷纳米压印设备
雷射原版与微纳器件製备
微纳结构样品展示